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高純級(jí)（EL級(jí)）過(guò)氧化氫：該產(chǎn)品金屬雜質(zhì)含量小于100ppb,控制1微米粒徑粒子，達(dá)到SEMIC1、C2標(biāo)準(zhǔn)，適合中小規(guī)模集成電路及電子元件加工工藝。

產(chǎn)品包裝規(guī)格：30公斤／桶，200公斤／桶，1000公斤／桶，以及30噸槽車(chē)。

產(chǎn)品介紹：電子級(jí)過(guò)氧化氫（UP級(jí)）使用0.8微米以上集成電路及TFT-LCD制造工藝，金屬雜質(zhì)含量小于10PPb,產(chǎn)品經(jīng)過(guò)0.2微米孔徑過(guò)濾，控制0.5微米粒子，在100級(jí)凈化環(huán)境中灌裝達(dá)到SEMIC7標(biāo)準(zhǔn)，產(chǎn)品主要用作半導(dǎo)體硅晶片清洗劑，蝕刻劑和光刻膠去除劑，還可用于要求較高的緣層制取，電鍍液無(wú)機(jī)雜質(zhì)去除，電子行業(yè)中銅、銅合金和鎵、鍺的處理，以及太陽(yáng)能硅晶片的燭刻和清洗。在處理過(guò)程中，試劑中的雜質(zhì)會(huì)對(duì)元器件性能產(chǎn)生致命影響，因此，超凈高純過(guò)氧化氫對(duì)純度的要求非常苛刻。